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セミナープログラム
会場
TECH Stage
開催日時
6月18日（水）15:00 - 15:30
セッションタイトル
波長193nmの深紫外光を使った難加工材のレーザ加工のご紹介
講演者
ギガフォトン 研究開発本部 研究部 担当部長
三浦 泰祐 氏
講演概要
エキシマレーザーは深紫外（DUV）領域の代表的な高出力光源であり、フェムト秒レーザーが世に出る以前から微細加工やアニーリング等で広く産業界で使われています。当社は半導体露光機用のエキシマレーザー光源を製造・販売して今年25年目を迎え、この半導体前工程用の波長193nmの高繰返しArFエキシマレーザーを加工分野へ展開するための技術開発を行っています。今回は固体レーザーとエキシマ増幅器を組合わせたハイブリッドArFエキシマレーザー光源の開発と、この光源を用いたセラミック複合材（Ceramic Matrix Composites, CMC）やPTFE等の難加工材料に対するレーザー加工事例を紹介します。
6月18日（水）15:00 - 15:30 TECH Stage